TY  - CONF

T1  - Device quality SiO<inf>2</inf> films by liquid phase deposition (LPD) at 48°C

JO  - Materials Research Society Symposium - Proceedings

PY  - 2011/02/01

AU  - Manhas M

AU  - Pease TJ

AU  - Cross R

AU  - Bose SC

AU  - Oxley DP

AU  - De Souza MM

AU  - Sankara Narayanan EM

ED  - 

DO  - DOI: 10.1557/proc-716-b7.9

VL  - 716

SP  - 317

EP  - 323

Y2  - 2024/12/20

ER  -